平面平晶的測(cè)量方法

      平面平晶是用于以干涉法測(cè)量塊規(guī)，以及檢驗(yàn)塊規(guī)、 量規(guī)、零件密封面、測(cè)量?jī)x器及測(cè)量工具量面的研合性和平面度的常用工具。具有兩個(gè)（或一個(gè)）光學(xué)測(cè)量平面的正圓柱形或長(zhǎng)方形的量規(guī)。光學(xué)測(cè)量平面是表面粗糙度數(shù)值和平面度誤差都極小的玻璃平面，它能夠產(chǎn)生光波干涉條紋（見(jiàn)激光測(cè)長(zhǎng)技術(shù)）。平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測(cè)量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗(yàn)量塊測(cè)量面的平面度誤差。平行平晶的兩個(gè)光學(xué)測(cè)量平面是相互平行的，用于測(cè)量?jī)筛吖鉂嵄砻娴钠叫卸日`差，例如千分尺兩測(cè)量面的平行度誤差.平晶用光學(xué)玻璃或石英玻璃制造。圓柱形平面平晶的直徑通常為 45～150毫米。其光學(xué)測(cè)量平面的平面度誤差為:1級(jí)精度的為0.03～0.05微米；2級(jí)精度的為0.1微米。常見(jiàn)的長(zhǎng)方形平面平晶的有效長(zhǎng)度一般為200毫米。

      平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測(cè)量平面度誤差的，故其測(cè)量方法稱為平晶干涉法（圖2）,也稱技術(shù)光波干涉法。測(cè)量時(shí),把平晶放在被測(cè)表面上,且與被測(cè)表面形成一個(gè)很小的楔角 θ，以單色光源照射時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關(guān)。如入射光線垂直于被測(cè)表面，且平晶與被測(cè)表面間的間隙很小,則由平晶測(cè)量面P反射的光線與被測(cè)表面反射的光線在測(cè)量面 P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現(xiàn)彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測(cè)表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)λ為光波波長(zhǎng)，白光的平均波長(zhǎng)為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。